Core components

高能等离子轰击源更适用于镀膜前处理工序中，针对有机基材更为有效，其主要功能是基片清洗，清洗基片表面污染物、基材表面活化增加膜基结合力、减少基底缺陷、增加基片表面能、携氧量等。在特殊场合可与阳极层离子源组合使用效果更加。其设计结构可实现多样性，满足不同使用条件。

JUMO离子源全部自主研发设计制造，可根据客户需求，提供合适的等离子体源，可以是矩形大面积、多层堆栈、圆柱空心等离子源，其激励形式MF、RF、DC Pulse可根据使用条件选择。可应用于离子辅助镀膜、等离子聚合、等离子清洁、等离子刻蚀、表面改性以及其他材料科学的研究等等。